高温ガスによる表面付着薄膜蒸発過程の分子動力学的研究(付着分子層厚さ・付着分子-表面ポテンシャルの影響)〔含コメント〕

高温ガスによる表面付着薄膜蒸発過程の分子動力学的研究(付着分子層厚さ・付着分子-表面ポテンシャルの影響)〔含コメント〕

国立国会図書館請求記号: Z54-J404
国立国会図書館書誌ID: 4872771

資料種別: 記事

著者: 芝原正彦ほか

出版者: Tokyo : Heat Transfer Society of Japan

出版年: 1999-09

資料形態: 紙

掲載誌名: Thermal Science and Engineering 7(5) 1999.09

掲載ページ: p.41～50

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紙

資料種別: 記事
タイトル: 高温ガスによる表面付着薄膜蒸発過程の分子動力学的研究(付着分子層厚さ・付着分子-表面ポテンシャルの影響)〔含コメント〕
著者・編者: 芝原正彦
高田泰和
香月正司
著者標目: 芝原正彦
高田泰和
香月正司
タイトル（掲載誌）: Thermal Science and Engineering
巻号年月日等（掲載誌）: 7(5) 1999.09
掲載巻: 7
掲載号: 5
掲載ページ: 41～50
掲載年月日（W3CDTF）: 1999-09
ISSN（掲載誌）: 0918-9963
ISSN-L（掲載誌）: 0918-9963
出版事項（掲載誌）: Tokyo : Heat Transfer Society of Japan
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
NDLC: ZM5
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z54-J404
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 4872771
http://id.ndl.go.jp/bib/4872771
整理区分コード: 632

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