極性制御で分子線エピタキシー成長GaN膜に劇的な特性改善
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 工業技術院電子技術総合研究所材料科学部ワイドギャップ半導体ラボ
- タイトル（掲載誌）
- 電総研ニュース = ETL news / 工業技術院電子技術総合研究所 編
- 巻号年月日等（掲載誌）
- (通号 602) 2000.03
- 掲載通号
- 602
- 掲載ページ
- 2～6
- 掲載年月日（W3CDTF）
- 2000-03
- ISSN（掲載誌）
- 0011-846X