Effective Diffusion Coefficient and Controlling Process of P Diffusion in Si Based on the Pair Diffusion Models of Vacancy and Inter-stitial Mechanisms

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Effective Diffusion Coefficient and Controlling Process of P Diffusion in Si Based on the Pair Diffusion Models of Vacancy and Inter-stitial Mechanisms

国立国会図書館請求記号
Z53-A375
国立国会図書館書誌ID
5384823
資料種別
記事
著者
Masayuki Yoshidaほか
出版者
Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
出版年
2000-05
資料形態
デジタル
掲載誌名
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 39(5A) (通号 519) 2000.05
掲載ページ
p.2483~2491
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資料詳細

要約等:

Based on the pair diffusion models of vacancy and interstitial (V and I) mechanisms, the V and I components of effective P diffusion coefficient, D<FO...

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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
Masayuki Yoshida
Masami Morooka
Manabu Takahashi 他
タイトル(掲載誌)
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号年月日等(掲載誌)
39(5A) (通号 519) 2000.05
掲載巻
39
掲載号
5A
掲載通号
519
掲載ページ
2483~2491