エキシマレーザ結晶化ポリシリコンの移動度限界

• 資料種別: 記事
• タイトル: エキシマレーザ結晶化ポリシリコンの移動度限界
• 著者・編者: 原 明人; 佐々木 伸夫
• 著者標目: 原 明人; 佐々木 伸夫
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 100 (通号 4) 2000.04.14
• 掲載巻: 100
• 掲載通号: 4
• 掲載ページ: 27～32
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2000-04-14
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 薄膜トランジスタ; excimer laser; poli-Si; thin film transistor
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: SDM2000-14
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 5392086; http://id.ndl.go.jp/bib/5392086
• 整理区分コード: 632