解説 シリコンエッチ...

解説 シリコンエッチングの原子レベル解析 (小特集 シリコンエッチング技術(1))

記事を表すアイコン

解説 シリコンエッチングの原子レベル解析(小特集 シリコンエッチング技術(1))

国立国会図書館請求記号
Z17-291
国立国会図書館書誌ID
5445587
資料種別
記事
著者
板谷 謹悟
出版者
東京 : 表面技術協会
出版年
2000-08
資料形態
掲載誌名
表面技術 = Journal of the Surface Finishing Society of Japan 51(8) 2000.8
掲載ページ
p.760~766
すべて見る

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

  • CiNii Research

    検索サービス
    デジタル
    連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

デジタル

資料種別
記事
著者・編者
板谷 謹悟
著者標目
タイトル(掲載誌)
表面技術 = Journal of the Surface Finishing Society of Japan
巻号年月日等(掲載誌)
51(8) 2000.8
掲載巻
51
掲載号
8
掲載ページ
760~766