CZ-Si結晶中酸素濃度均一性と融液自由表面からのSiO蒸発(小特集バルク成長分科会特集--結晶成長時における気液界面の物質移動と結晶に与える影響)

掲載誌名: 日本結晶成長学会誌 = Journal of the Japanese Association for Crystal Growth 27(5) 2000

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資料種別: 記事
タイトル: CZ-Si結晶中酸素濃度均一性と融液自由表面からのSiO蒸発
著者・編者: 前田進
安部啓成
中西秀夫他
シリーズタイトル: 小特集バルク成長分科会特集--結晶成長時における気液界面の物質移動と結晶に与える影響
著者標目: 前田進
安部啓成
中西秀夫
タイトル（掲載誌）: 日本結晶成長学会誌 = Journal of the Japanese Association for Crystal Growth
巻号年月日等（掲載誌）: 27(5) 2000
掲載巻: 27
掲載号: 5
掲載ページ: 267～274
掲載年月日（W3CDTF）: 2000
ISSN（掲載誌）: 0385-6275
ISSN-L（掲載誌）: 0385-6275
出版事項（掲載誌）: 大阪 : 日本結晶成長学会
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
NDLC: ZM35
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z15-339
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 5597551
http://id.ndl.go.jp/bib/5597551
整理区分コード: 632