超高温・超高速熱アニール処理による4H-SiCへの低抵抗n〔+〕型イオン注入層形成--世界最小のシート抵抗値を達成

国立国会図書館請求記号: Z16-223
国立国会図書館書誌ID: 5694571

資料種別: 記事

著者: 工業技術院電子技術総合研究所先進パワーデバイス研究室ほか

出版者: つくば : 工業技術院電子技術総合研究所

出版年: 2001-02

資料形態: デジタル

掲載誌名: 電総研ニュース = ETL news / 工業技術院電子技術総合研究所編 613 2001.2

掲載ページ: p.2～7

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デジタル

資料種別: 記事
タイトル: 超高温・超高速熱アニール処理による4H-SiCへの低抵抗n〔+〕型イオン注入層形成--世界最小のシート抵抗値を達成
著者・編者: 工業技術院電子技術総合研究所先進パワーデバイス研究室
工業技術院電子技術総合研究所材料科学部ハードエレクトロニクスラボ
著者標目: 工業技術院電子技術総合研究所先進パワーデバイス研究室
工業技術院電子技術総合研究所材料科学部ハードエレクトロニクスラボ
タイトル（掲載誌）: 電総研ニュース = ETL news / 工業技術院電子技術総合研究所編
巻号年月日等（掲載誌）: 613 2001.2
掲載巻: 613
掲載ページ: 2～7
掲載年月日（W3CDTF）: 2001-02
ISSN（掲載誌）: 0011-846X
ISSN-L（掲載誌）: 0011-846X
出版事項（掲載誌）: つくば : 工業技術院電子技術総合研究所
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
NDLC: ZN33
対象利用者: 一般
コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 独立行政法人
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00033
オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象外
遠隔複写可否（NDL）: 不可
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z16-223
関連情報（URI）: http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/9626027
関連情報（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/9626027
http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/9626027
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 5694571
http://id.ndl.go.jp/bib/5694571
整理区分コード: 632