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An Annular Reactor Model for Copper Electrowinning under Laminar F1uid Flow

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An Annular Reactor Model for Copper Electrowinning under Laminar F1uid Flow

国立国会図書館請求記号
Z53-R395
国立国会図書館書誌ID
5708317
資料種別
記事
著者
Ken-Ming Yinほか
出版者
Tokyo : Society of Chemical Engineers
出版年
2001-01
資料形態
掲載誌名
Journal of chemical engineering of Japan 34(1) 2001.1
掲載ページ
p.7~14
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資料種別
記事
著者・編者
Ken-Ming Yin
Shu-Kuo Chiu
Hang-Tang Lin 他
タイトル(掲載誌)
Journal of chemical engineering of Japan
巻号年月日等(掲載誌)
34(1) 2001.1
掲載巻
34
掲載号
1
掲載ページ
7~14
掲載年月日(W3CDTF)
2001-01
ISSN(掲載誌)
0021-9592
ISSN-L(掲載誌)
0021-9592
出版事項(掲載誌)
Tokyo : Society of Chemical Engineers
出版地(国名コード)
JP
本文の言語コード
eng
NDLC
対象利用者
一般
所蔵機関
国立国会図書館
請求記号
Z53-R395
連携機関・データベース
国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
書誌ID(NDLBibID)
5708317
整理区分コード
632

デジタル

要約等
A two-dimensional mathematical model has been developed to describe annular electrochemical reactor performance. Multiple electrochemical reactions of copper electrowinning from a chloride solution were evaluated to illustrate the usage of the model. The simulation includes the mass transport of ionic species and the associated electrochemical kinetics under the laminar fluid flow condition. The model predicts current distributions on the electrodes, conversion per pass (CPP), selectivity of copper as a function of the applied potential, residence time, and anode to cathode diameter ratio.
DOI
10.1252/jcej.34.7
オンライン閲覧公開範囲
インターネット公開
連携機関・データベース
科学技術振興機構 : J-STAGE

デジタル

要約等
A two-dimensional mathematical model has been developed to describe annular electrochemical reactor performance. Multiple electrochemical reactions of copper electrowinning from a chloride solution were evaluated to illustrate the usage of the model. The simulation includes the mass transport of ionic species and the associated electrochemical kinetics under the laminar fluid flow condition. The model predicts current distributions on the electrodes, conversion per pass (CPP), selectivity of copper as a function of the applied potential, residence time, and anode to cathode diameter ratio.
参照
A study on the deposit uniformity of hard chromium plating on the interior of small-diameter tubes
The use of conducting polymers and colloids in the through hole plating of printed circuit boards
Optimisation of the Quality of Plated Through-holes in Printed Circuit Boards
Chromium as a gun tube liner
A model for the Kolbe reaction of acetate in a parallel-plate reactor
Finite‐Difference Simulation of Multi‐Ion Electrochemical Systems Governed by Diffusion, Migration, and Convection: Implementation in Parallel‐Plate Electrochemical Reactor and Backward‐Facing Step Geometries
Parallel Plate Electrochemical Reactor Model
連携機関・データベース
国立情報学研究所 : CiNii Research
提供元機関・データベース
Japan Link Center
雑誌記事索引データベース
Crossref
CiNii Articles
書誌ID(NDLBibID)
5708317
NII論文ID
130000020294