シリコン量子井戸構造の作製と評価

• 資料種別: 記事
• タイトル: シリコン量子井戸構造の作製と評価
• 著者・編者: 石原 大阿; 岩崎 正憲; 石川 靖彦 他
• 著者標目: 石原 大阿; 岩崎 正憲; 石川 靖彦
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 101(79) 2001.5.25
• 掲載巻: 101
• 掲載号: 79
• 掲載ページ: 81～85
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2001-05-25
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: Si; SiO2; SOI; 二重障壁構造; 負性微分抵抗; 共鳴トンネル効果; double barrier structure; negative differential resistance; resonant tunneling
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: ED2001-43
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 5801360; http://id.ndl.go.jp/bib/5801360
• 整理区分コード: 632