種々のプラズマ源の電子エネルギー分布関数の比較(小特集 電子エネルギー分布関数とプラズマプロセス)

• 資料種別: 記事
• タイトル: 種々のプラズマ源の電子エネルギー分布関数の比較
• 著者・編者: 野田 周一
• シリーズタイトル: 小特集 電子エネルギー分布関数とプラズマプロセス
• 著者標目: 野田 周一
• タイトル（掲載誌）: プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research / プラズマ・核融合学会編集委員会 編
• 巻号年月日等（掲載誌）: 77(7) 2001.7
• 掲載巻: 77
• 掲載号: 7
• 掲載ページ: 652～659
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2001-07
• ISSN（掲載誌）: 0918-7928
• ISSN-L（掲載誌）: 0918-7928
• 出版事項（掲載誌）: 名古屋 : プラズマ・核融合学会編集委員会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: EEDF; OES; plasma etching; SiO2; C4F8; dissociation ratio; electron collision number; dissociation rate constant
• NDLC: ZM35
• 対象利用者: 一般
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z15-8
• 関連情報（URI）: http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10454455
• 関連情報（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10454455; http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10454455
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 5852217; http://id.ndl.go.jp/bib/5852217
• 整理区分コード: 632