エンボス法とフォトブリーチング法を組み合わせた電気光学高分子光回路作製

• 資料種別: 記事
• タイトル: エンボス法とフォトブリーチング法を組み合わせた電気光学高分子光回路作製
• 著者・編者: 柴田 慎弥; 杉原 興浩; 藤村 久 他
• 著者標目: 柴田 慎弥; 杉原 興浩; 藤村 久
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 101(344) 2001.10.12
• 掲載巻: 101
• 掲載号: 344
• 掲載ページ: 25～30
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2001-10-12
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: エンボス; フォトブリーチ; チャネル導波路; 回折格子; マスク/マスタ; emboss; photobleach; channel waveguide; grating; electrooptic polymer; mask/master
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: OME2001-79
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 5977375; http://id.ndl.go.jp/bib/5977375
• 整理区分コード: 632