Preparation of Epitaxial YSZ Thin Film Deposited on SiO2/Si(001) at Room Temperature by Pulsed Laser Deposition(PLD) (Special Issue Ceramics Integration)

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Preparation of Epitaxial YSZ Thin Film Deposited on SiO2/Si(001) at Room Temperature by Pulsed Laser Deposition(PLD)(Special Issue Ceramics Integration)

国立国会図書館請求記号: Z17-249
国立国会図書館書誌ID: 6154134

資料種別: 記事

著者: 石垣寛和ほか

出版者: 東京 : 日本セラミックス協会

出版年: 2002-05

資料形態: 紙

掲載誌名: 日本セラミックス協会学術論文誌 / 日本セラミックス協会 [編] 110(1281) 2002.5

掲載ページ: p.333～337

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紙デジタル

資料種別: 記事
タイトル: Preparation of Epitaxial YSZ Thin Film Deposited on SiO2/Si(001) at Room Temperature by Pulsed Laser Deposition(PLD)
著者・編者: 石垣寛和
山田智明
脇谷尚樹他
シリーズタイトル: Special Issue Ceramics Integration
著者標目: 石垣寛和
山田智明
脇谷尚樹
並列タイトル等: PLD法によるSiO2/Si(001)基板上エピタキシャルYSZ薄膜の室温合成
タイトル（掲載誌）: 日本セラミックス協会学術論文誌 / 日本セラミックス協会 [編]
巻号年月日等（掲載誌）: 110(1281) 2002.5
掲載巻: 110
掲載号: 1281
掲載ページ: 333～337
掲載年月日（W3CDTF）: 2002-05
ISSN（掲載誌）: 0914-5400
ISSN-L（掲載誌）: 0914-5400
出版事項（掲載誌）: 東京 : 日本セラミックス協会
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
件名標目: Epitaxy
Buffer layer
NDLC: ZP9
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z17-249
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 6154134
http://id.ndl.go.jp/bib/6154134
整理区分コード: 632

Preparation of Epitaxial YSZ Thin Film Deposited on SiO2/Si(001) at Room Temperature by Pulsed Laser Deposition(PLD)(Special Issue Ceramics Integration)

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