Influence of Substrate Bias Voltage on the Properties of Cu Thin Films by Sputter Type Ion Beam Deposition

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Influence of Substrate Bias Voltage on the Properties of Cu Thin Films by Sputter Type Ion Beam Deposition

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資料種別: 記事
タイトル: Influence of Substrate Bias Voltage on the Properties of Cu Thin Films by Sputter Type Ion Beam Deposition
著者・編者: Jae-Won Lim
Yukio Ishikawa
Kiyoshi Miyake 他
著者標目: Jae-Won Lim
Yukio Ishikawa
Kiyoshi Miyake
タイトル（掲載誌）: Materials transactions
巻号年月日等（掲載誌）: 43(6) 2002.6
掲載巻: 43
掲載号: 6
掲載ページ: 1403～1408
掲載年月日（W3CDTF）: 2002-06
ISSN（掲載誌）: 1345-9678
ISSN-L（掲載誌）: 1345-9678
出版事項（掲載誌）: Sendai : The Japan Institute of Metals and Materials ; 2001-
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
件名標目: ion beam deposition
copper resistivity
NDLC: ZP41
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z53-J286
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 6200846
http://id.ndl.go.jp/bib/6200846
整理区分コード: 632