Structural Analyses of Cu[111] Layer on Nb[110] Barrier Formed on SiO2

• 資料種別: 記事
• タイトル: Structural Analyses of Cu[111] Layer on Nb[110] Barrier Formed on SiO2
• 著者・編者: Md. Maniruzzaman; Mayumi B. Takeyama; Atsushi Noya 他
• 著者標目: Md. Maniruzzaman; Mayumi B. Takeyama; Atsushi Noya
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 103(162) 2003.6.30
• 掲載巻: 103
• 掲載号: 162
• 掲載ページ: 19～22
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2003-06-30
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Diffusion barrier; Niobium; Preferred orientation; X-ray pole figure
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: SDM2003-78
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 6646733; http://id.ndl.go.jp/bib/6646733
• 整理区分コード: 632