SiHx Absorbance Bands in Si3N4 Powder Surfaces Analyzed by Diffuse Reflectance Infrared Fourier Transform Spectroscopy
デジタルデータあり（Japan Link Center）
すぐに読む
CiNii Research
全国の図書館の所蔵
国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。
所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください
書誌情報
この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。
- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- Tran Thi Thu HienChanel Ishizaki石崎 幸三
- 並列タイトル等
- 窒化ケイ素粉末表面のSiHx吸収バンドの拡散反射フーリエ変換赤外線分光による解析
- タイトル（掲載誌）
- 日本セラミックス協会学術論文誌 / 日本セラミックス協会 [編]
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 112(1301) 2004.1
- 掲載巻
- 112
- 掲載号
- 1301
- 掲載ページ
- 1～5