ナノテクフロンティアクラスターイオン、ナノ加工に活躍--磁性薄膜や半導体、フォトニクス結晶材料で成果照射範囲を限定し、無損傷研磨や高品位薄膜を実現

ナノテクフロンティアクラスターイオン、ナノ加工に活躍--磁性薄膜や半導体、フォトニクス結晶材料で成果照射範囲を限定し、無損傷研磨や高品位薄膜を実現

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資料種別: 記事
タイトル: ナノテクフロンティアクラスターイオン、ナノ加工に活躍--磁性薄膜や半導体、フォトニクス結晶材料で成果照射範囲を限定し、無損傷研磨や高品位薄膜を実現
著者・編者: 江口正人
著者標目: 江口正人
タイトル（掲載誌）: 日経先端技術 / 日本経済新聞社, 日経産業消費研究所編
巻号年月日等（掲載誌）: (通号 68) 2004.8.23
掲載通号: 68
掲載ページ: 11～14
掲載年月日（W3CDTF）: 2004-08-23
ISSN（掲載誌）: 1346-826X
ISSN-L（掲載誌）: 1346-826X
出版事項（掲載誌）: 東京 : 日本経済新聞社
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
NDLC: ZM1
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z74-C591
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 7046157
http://id.ndl.go.jp/bib/7046157
整理区分コード: 632