Physical and Microstructural Properties of Radio-Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Grown n-Type Phosphorus Doped Amorphous Carbon Films on the Contribution to Carbon-Based Solar Cells

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Physical and Microstructural Properties of Radio-Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Grown n-Type Phosphorus Doped Amorphous Carbon Films on the Contribution to Carbon-Based Solar Cells

国立国会図書館請求記号
Z53-A375
国立国会図書館書誌ID
7402497
資料種別
記事
著者
Mohamad Rusopほか
出版者
Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
出版年
2005-08
資料形態
デジタル
掲載誌名
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 44(8) (通号 618) 2005.8
掲載ページ
p.6124~6130
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資料詳細

要約等:

The physical and microstructural properties of phosphorus doped n-type amorphous carbon (n-C:P) films grown from a radio-frequency (rf) discharge in m...

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
Mohamad Rusop
Hiroshi Ebisu
Mitsuhiro Adachi 他
タイトル(掲載誌)
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号年月日等(掲載誌)
44(8) (通号 618) 2005.8
掲載巻
44
掲載号
8
掲載通号
618
掲載ページ
6124~6130