Influence of the Gas Supply on the Elimination of Impurities and Surface Morphology of δ-Bi2O3 Thin Film under Atmospheric Pressure by Means of Halide CVD on C-Sapphire

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Influence of the Gas Supply on the Elimination of Impurities and Surface Morphology of δ-Bi2O3 Thin Film under Atmospheric Pressure by Means of Halide CVD on C-Sapphire

国立国会図書館請求記号
Z17-14
国立国会図書館書誌ID
7688405
資料種別
記事
著者
竹山 知陽ほか
出版者
東京 : 電気化学協会
出版年
2005-10
資料形態
掲載誌名
電気化学および工業物理化学 = Denki kagaku 73(10) 2005.10
掲載ページ
p.883~886
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
竹山 知陽
高橋 直行
中村 高遠 他
並列タイトル等
AP-HCVD法により作製したδ-Bi2O3薄膜へのガス供給の影響と表面モフォロジー
タイトル(掲載誌)
電気化学および工業物理化学 = Denki kagaku
巻号年月日等(掲載誌)
73(10) 2005.10
掲載巻
73
掲載号
10
掲載ページ
883~886