酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al2O3膜の作製とデバイス応用

• 資料種別: 記事
• タイトル: 酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al2O3膜の作製とデバイス応用
• 著者・編者: 岡田 貴行; 伊藤 幹記; 澤田 和明 他
• 著者標目: 岡田 貴行; 伊藤 幹記; 澤田 和明
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 106(47) 2006.5.18-19
• 掲載巻: 106
• 掲載号: 47
• 掲載ページ: 15～20
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2006-05
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 分子線エピタキシャル成長; ケミカルオキサイド; Epitaxialγ-Al2O3; Molecular Beam Epitaxy; Chemical Oxide
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: SDM2006-23
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 7939358; http://id.ndl.go.jp/bib/7939358
• 整理区分コード: 632