Preparation of Monosized Silicon Micro Particles by Pulsated Orifice Ejection Method (特集粉末製造技術とその評価)

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Preparation of Monosized Silicon Micro Particles by Pulsated Orifice Ejection Method(特集粉末製造技術とその評価)

掲載誌名: 粉体および粉末冶金 = Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy : 粉体粉末冶金協会誌 / 粉体粉末冶金協会編 53(4) 2006.4

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資料種別: 記事
タイトル: Preparation of Monosized Silicon Micro Particles by Pulsated Orifice Ejection Method
著者・編者: Wei Dong
Kenta Takagi
Satoshi Masuda 他
シリーズタイトル: 特集粉末製造技術とその評価
著者標目: Wei Dong
Kenta Takagi
Satoshi Masuda
タイトル（掲載誌）: 粉体および粉末冶金 = Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy : 粉体粉末冶金協会誌 / 粉体粉末冶金協会編
巻号年月日等（掲載誌）: 53(4) 2006.4
掲載巻: 53
掲載号: 4
掲載ページ: 346～351
掲載年月日（W3CDTF）: 2006-04
ISSN（掲載誌）: 0532-8799
ISSN-L（掲載誌）: 0532-8799
出版事項（掲載誌）: 京都 : 粉体粉末冶金協会
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
件名標目: POEM
Pulsed Orifice Ejection Method
spherical particles
OIM
Orientation-imaging Microscopy
NDLC: ZP41
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z17-274
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 7940906
http://id.ndl.go.jp/bib/7940906
整理区分コード: 632