正・負高電圧パルス型プラズマ利用イオン注入法で作製したSi含有DLC膜(1)Si含有量と耐熱性及び摩擦摩耗特性

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正・負高電圧パルス型プラズマ利用イオン注入法で作製したSi含有DLC膜(1)Si含有量と耐熱性及び摩擦摩耗特性

国立国会図書館請求記号
Z17-274
国立国会図書館書誌ID
8081369
資料種別
記事
著者
池山 雅美ほか
出版者
京都 : 粉体粉末冶金協会
出版年
2006-08
資料形態
掲載誌名
粉体および粉末冶金 = Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy : 粉体粉末冶金協会誌 / 粉体粉末冶金協会 編 53(8) 2006.8
掲載ページ
p.635~640
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
池山 雅美
Junho Choi
中尾 節男 他
タイトル(掲載誌)
粉体および粉末冶金 = Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy : 粉体粉末冶金協会誌 / 粉体粉末冶金協会 編
巻号年月日等(掲載誌)
53(8) 2006.8
掲載巻
53
掲載号
8
掲載ページ
635~640
掲載年月日(W3CDTF)
2006-08