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Siエピタキシャル薄...

Siエピタキシャル薄膜作製プロセスのシミュレーション (小特集 化学気相成長プロセスのシミュレーション)

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Siエピタキシャル薄膜作製プロセスのシミュレーション(小特集 化学気相成長プロセスのシミュレーション)

国立国会図書館請求記号
Z16-474
国立国会図書館書誌ID
8531971
資料種別
記事
著者
羽深 等
出版者
東京 : 日本真空協会
出版年
2006-09
資料形態
掲載誌名
真空 = Journal of the Vacuum Society of Japan 49(9) 2006.9
掲載ページ
p.525~529
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
羽深 等
著者標目
タイトル(掲載誌)
真空 = Journal of the Vacuum Society of Japan
巻号年月日等(掲載誌)
49(9) 2006.9
掲載巻
49
掲載号
9
掲載ページ
525~529