次世代TFT作製に向...

次世代TFT作製に向けたシリコン結晶化技術 (「レーザーアニールによる低温ポリシリコン結晶化技術の新展開」解説小特集号)

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次世代TFT作製に向けたシリコン結晶化技術(「レーザーアニールによる低温ポリシリコン結晶化技術の新展開」解説小特集号)

国立国会図書館請求記号
Z16-1040
国立国会図書館書誌ID
8546759
資料種別
記事
著者
東 和文ほか
出版者
吹田 : レーザー学会
出版年
2006-10
資料形態
掲載誌名
レーザー研究 = The review of laser engineering : レーザー学会誌 / レーザー学会 編 34(10) 2006.10
掲載ページ
p.679~683
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
東 和文
平松 雅人
松村 正清
タイトル(掲載誌)
レーザー研究 = The review of laser engineering : レーザー学会誌 / レーザー学会 編
巻号年月日等(掲載誌)
34(10) 2006.10
掲載巻
34
掲載号
10
掲載ページ
679~683