Fe系シリサイドによるフォトニック結晶の作製

• 資料種別: 記事
• タイトル: Fe系シリサイドによるフォトニック結晶の作製
• 著者・編者: 國松 俊佑; 今井 章文; 秋山 賢輔 他
• 著者標目: 國松 俊佑; 今井 章文; 秋山 賢輔
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 106(378) 2006.11.24
• 掲載巻: 106
• 掲載号: 378
• 掲載ページ: 7～10
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2006-11-24
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: シリサイド半導体; 反応性イオンエッチング; β-FeSi2; Semiconducting silicide; Reactive ion etching; Photonic crystal
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: ED2006-177
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 8572110; http://id.ndl.go.jp/bib/8572110
• 整理区分コード: 632