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高分子基材上におけるセラミックス薄膜のき裂形成に及ぼす紫外線の影響 (特集 破壊力学)

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高分子基材上におけるセラミックス薄膜のき裂形成に及ぼす紫外線の影響(特集 破壊力学)

国立国会図書館請求記号
Z14-267
国立国会図書館書誌ID
8615871
資料種別
記事
著者
大宮 正毅ほか
出版者
京都 : 日本材料学会
出版年
2006-12
資料形態
掲載誌名
材料 / 日本材料学会 [編] 55(12) 2006.12
掲載ページ
p.1081~1087
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
大宮 正毅
岸本 喜久雄
シリーズタイトル
タイトル(掲載誌)
材料 / 日本材料学会 [編]
巻号年月日等(掲載誌)
55(12) 2006.12
掲載巻
55
掲載号
12
掲載ページ
1081~1087