先端の半導体製造プロ...

先端の半導体製造プロセスに用いられるエアロゾル洗浄技術 (特集 エアロゾル技術の工業製品への応用)

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先端の半導体製造プロセスに用いられるエアロゾル洗浄技術(特集 エアロゾル技術の工業製品への応用)

国立国会図書館請求記号
Z17-1062
国立国会図書館書誌ID
8750180
資料種別
記事
著者
糸井 賢一
出版者
東京 : 日本エアロゾル学会
出版年
2007
資料形態
掲載誌名
エアロゾル研究 / 日本エアロゾル学会編集事務局 編 22(1) (通号 85) 2007.Spr
掲載ページ
p.11~13
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
糸井 賢一
著者標目
並列タイトル等
Cryogenic aerosol cleaning technology for advanced semiconductor manufacturing process
タイトル(掲載誌)
エアロゾル研究 / 日本エアロゾル学会編集事務局 編
巻号年月日等(掲載誌)
22(1) (通号 85) 2007.Spr
掲載巻
22
掲載号
1