45nm以降で新たな...

45nm以降で新たな挑戦に直面するエッチングプロセス

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45nm以降で新たな挑戦に直面するエッチングプロセス

国立国会図書館請求記号
Z74-E304
国立国会図書館書誌ID
8760229
資料種別
記事
著者
Peter Singer
出版者
東京 : リード・ビジネス・インフォメーション
出版年
2007-04
資料形態
掲載誌名
Semiconductor international. 日本版 4(4) 2007.4
掲載ページ
p.34~38
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
Peter Singer
著者標目
並列タイトル等
Etch faces new challenges at 45 and 32 nm
タイトル(掲載誌)
Semiconductor international. 日本版
巻号年月日等(掲載誌)
4(4) 2007.4
掲載巻
4
掲載号
4
掲載ページ
34~38