スパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成

• 資料種別: 記事
• タイトル: スパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成
• 著者・編者: 以西 雅章; 中村 功一; 長南 祐史 他
• シリーズタイトル: 電子部品・材料
• 著者標目: 以西 雅章; 中村 功一; 長南 祐史
• 並列タイトル等: Preparation of LiMn2O4 films by sputtering method
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 107(55) 2007.5.24・25
• 掲載巻: 107
• 掲載号: 55
• 掲載ページ: 93～96
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2007-05
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: Li二次電池; マンガン酸化物薄膜; Li-Mn欠陥スピネル構造; スパッタリング法; アニール; Li secondary batteries; Manganese oxide films; Li-Mn defect spinel structure; sputtering method; rapid thermal annealing
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: CPM2007-25
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 8762776; http://id.ndl.go.jp/bib/8762776
• 整理区分コード: 632