スパッタリング法によ...

スパッタリング法によるTiO2およびTiN薄膜結晶成長

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スパッタリング法によるTiO2およびTiN薄膜結晶成長

国立国会図書館請求記号
Z22-39
国立国会図書館書誌ID
8780701
資料種別
記事
著者
伊藤 早紀ほか
出版者
旭川 : 旭川工業高等専門学校
出版年
2007-03
資料形態
掲載誌名
旭川工業高等専門学校研究報文 = Journal of the Asahikawa National College of Technology (44) 2007.3
掲載ページ
p.27~32
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
伊藤 早紀
篁 耕司
吉本 健一
並列タイトル等
Crystalline growth of titanium dioxide and titanium nitride films by sputtering method
タイトル(掲載誌)
旭川工業高等専門学校研究報文 = Journal of the Asahikawa National College of Technology
巻号年月日等(掲載誌)
(44) 2007.3
掲載号
44
掲載ページ
27~32
掲載年月日(W3CDTF)
2007-03