側壁測定技術は32nmにも通用する

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側壁測定技術は32nmにも通用する

国立国会図書館請求記号
Z74-E304
国立国会図書館書誌ID
8802725
資料種別
記事
著者
Alexander E. Braun
出版者
東京 : リード・ビジネス・インフォメーション
出版年
2007-05
資料形態
掲載誌名
Semiconductor international. 日本版 4(5) 2007.5
掲載ページ
p.37~41
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
Alexander E. Braun
著者標目
並列タイトル等
Sidewall metrology expects clear sailing to 32 nm
タイトル(掲載誌)
Semiconductor international. 日本版
巻号年月日等(掲載誌)
4(5) 2007.5
掲載巻
4
掲載号
5
掲載ページ
37~41