CMPにおけるウエハ...

CMPにおけるウエハとパッドすきま内スラリー流れの数値解析--溝なし,同心円溝,放射状溝での比較

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CMPにおけるウエハとパッドすきま内スラリー流れの数値解析--溝なし,同心円溝,放射状溝での比較

国立国会図書館請求記号
Z16-109
国立国会図書館書誌ID
8958629
資料種別
記事
著者
永山 勝也ほか
出版者
東京 : 日本機械学会 ; 1979-2010
出版年
2007-09
資料形態
掲載誌名
日本機械学会論文集. B編 73(733) 2007.9
掲載ページ
p.1806~1812
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
永山 勝也
木村 景一
森下 浩文 他
並列タイトル等
A computational study on slurry flow between a wafer and pad in CMP: cases without groove, with circular grooves and radial grooves
タイトル(掲載誌)
日本機械学会論文集. B編
巻号年月日等(掲載誌)
73(733) 2007.9
掲載巻
73
掲載号
733
掲載ページ
1806~1812