可変面積型超LSI用電子ビーム露光装置について--理化学研究所・情報科学研究室における研究開発の一例

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可変面積型超LSI用電子ビーム露光装置について--理化学研究所・情報科学研究室における研究開発の一例

国立国会図書館請求記号
Z14-82
国立国会図書館書誌ID
8973333
資料種別
記事
著者
小山 俊士
出版者
東京 : 日本科学史学会 ; [1962]-2013
出版年
2007
資料形態
デジタル
掲載誌名
科学史研究. [第Ⅱ期] = Journal of history of science, Japan. [Series Ⅱ] / 日本科学史学会 編 46(243) 2007.秋
掲載ページ
p.155~166
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資料詳細

要約等:

This article outlines research and development using the electron beam lithography system conducted by Eiichi Goto and his colleagues at the Informati...

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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
小山 俊士
著者標目
並列タイトル等
Variable shaped electron beam lithography for fabrication of very large-scale integrated circuits: an example of research and development in the Information Science Laboratory, the Institute of Physical and Chemical Research
タイトル(掲載誌)
科学史研究. [第Ⅱ期] = Journal of history of science, Japan. [Series Ⅱ] / 日本科学史学会 編
巻号年月日等(掲載誌)
46(243) 2007.秋
掲載巻
46
掲載号
243
掲載ページ
155~166