HfO2系High-k材料向けのin-situチャンバークリーニング技術の開発
インターネットで読む
すぐに読む
国立国会図書館デジタルコレクション
全国の図書館の所蔵
国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。
所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください
書誌情報
この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。
- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 柴田 俊格宮 博信国井 泰夫 他
- 並列タイトル等
- Development of in-situ chamber cleaning technology for Hf-base High-k materials
- タイトル（掲載誌）
- 大陽日酸技報
- 巻号年月日等（掲載誌）
- (26) 2007
- 掲載号
- 26
- 掲載ページ
- 7～11
- 掲載年月日（W3CDTF）
- 2007