フォトポリマーとマスク間距離が格子形成に及ぼす影響

• 資料種別: 記事
• タイトル: フォトポリマーとマスク間距離が格子形成に及ぼす影響
• 著者・編者: 田邉 春美; 小野 浩司; 川月 喜弘
• シリーズタイトル: 光エレクトロニクス
• 著者標目: 田邉 春美; 小野 浩司; 川月 喜弘
• 並列タイトル等: Effects of gap between optical mask and photopolymer on grating formation
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 107(322) 2007.11.16
• 掲載巻: 107
• 掲載号: 322
• 掲載ページ: 13～17
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2007-11-16
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 回折格子; フォトポリマー; マスク露光; ギャップ長; Grating; Photopolymer; Mask exposure method; Gap length
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: OPE2007-129
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 9290774; http://id.ndl.go.jp/bib/9290774
• 整理区分コード: 632