マイクロ波励起プラズマを用いた高品質シリコン窒化膜の形成(小特集極表面の窒化--その制御と計測)

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資料種別: 記事
タイトル: マイクロ波励起プラズマを用いた高品質シリコン窒化膜の形成
著者・編者: 寺本章伸
荒谷崇
樋口正顕他
シリーズタイトル: 小特集極表面の窒化--その制御と計測
著者標目: 寺本章伸
荒谷崇
樋口正顕
並列タイトル等: Formation of high quality silicon nitride films using microwave excitation plasma
タイトル（掲載誌）: 真空 = Journal of the Vacuum Society of Japan
巻号年月日等（掲載誌）: 50(11) 2007.11
掲載巻: 50
掲載号: 11
掲載ページ: 659～664
掲載年月日（W3CDTF）: 2007-11
ISSN（掲載誌）: 0559-8516
ISSN-L（掲載誌）: 0559-8516
出版事項（掲載誌）: 東京 : 日本真空協会
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
NDLC: ZN15
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z16-474
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 9303673
http://id.ndl.go.jp/bib/9303673
整理区分コード: 632