マイクロ波励起プラズマを用いた高品質シリコン窒化膜の形成 (小特集 極表面の窒化--その制御と計測)
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CiNii Research
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 寺本 章伸荒谷 崇樋口 正顕 他
- シリーズタイトル
- 並列タイトル等
- Formation of high quality silicon nitride films using microwave excitation plasma
- タイトル（掲載誌）
- 真空 = Journal of the Vacuum Society of Japan
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 50(11) 2007.11
- 掲載巻
- 50
- 掲載号
- 11