イオンビーム照射ポリ...

イオンビーム照射ポリフッ化ビニリデン薄膜のエッチング挙動--エッチング前処理・照射イオン効果の検討 (特集号 高分子表面・界面の新展開(2))

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イオンビーム照射ポリフッ化ビニリデン薄膜のエッチング挙動--エッチング前処理・照射イオン効果の検討(特集号 高分子表面・界面の新展開(2))

国立国会図書館請求記号
Z17-92
国立国会図書館書誌ID
9437736
資料種別
記事
著者
八巻 徹也ほか
出版者
東京 : 高分子学会
出版年
2008
資料形態
掲載誌名
高分子論文集 = Japanese journal of polymer science and technology 65(3) 2008
掲載ページ
p.273~276
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
八巻 徹也
Rosiah Rohani
越川 博 他
並列タイトル等
Etching behavior of Poly(vinylidene fluoride) thin films irradiated with ion beams: effect of irradiated ions and pretreatment
タイトル(掲載誌)
高分子論文集 = Japanese journal of polymer science and technology
巻号年月日等(掲載誌)
65(3) 2008
掲載巻
65
掲載号
3