高周波電力を重畳した直流反応性スパッタ法によるTaAl-N薄膜の作製 (第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日～16日,東京)

デジタルデータあり（Japan Link Center）

CiNii Research

高周波電力を重畳した直流反応性スパッタ法によるTaAl-N薄膜の作製(第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日～16日,東京)

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

CiNii Research
検索サービス
デジタル
連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。
この本の所蔵を確認

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

資料種別: 記事
タイトル: 高周波電力を重畳した直流反応性スパッタ法によるTaAl-N薄膜の作製
著者・編者: 岡野夕紀子
田尻修一
青園隆司他
シリーズタイトル: 第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日～16日,東京
著者標目: 岡野夕紀子
田尻修一
青園隆司
並列タイトル等: TaAl-N thin film prepared by radio frequency and direct current reactive sputtering
タイトル（掲載誌）: Journal of the Vacuum Society of Japan = 真空
巻号年月日等（掲載誌）: 51(3) 2008.3
掲載巻: 51
掲載号: 3
掲載ページ: 208～210
掲載年月日（W3CDTF）: 2008-03
ISSN（掲載誌）: 1882-2398
ISSN-L（掲載誌）: 1882-2398
出版事項（掲載誌）: 東京 : 日本真空協会
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
NDLC: ZN15
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z16-474
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 9471593
http://id.ndl.go.jp/bib/9471593
整理区分コード: 632