パルス放電を利用した...

パルス放電を利用した成膜技術に関する研究--パルス条件と皮膜性状の関係 (第194回電気加工研究会)

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パルス放電を利用した成膜技術に関する研究--パルス条件と皮膜性状の関係

(第194回電気加工研究会)

国立国会図書館請求記号
Z16-1136
国立国会図書館書誌ID
9606859
資料種別
記事
著者
寺本 浩行ほか
出版者
東京 : 電気加工学会
出版年
2008-07-18
資料形態
掲載誌名
電気加工技術 32(102) 2008.7.18
掲載ページ
p.13~16
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
寺本 浩行
後藤 昭弘
中村 和司 他
シリーズタイトル
並列タイトル等
Research on coating technology using pulsed electrical discharge relation between pulse condition and film structures
タイトル(掲載誌)
電気加工技術
巻号年月日等(掲載誌)
32(102) 2008.7.18
掲載巻
32
掲載号
102