光電子収量分光法の絶...

光電子収量分光法の絶縁物への適用とルブレン薄膜酸化過程のその場観察への応用 (第27回表面科学講演大会論文特集(3))

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光電子収量分光法の絶縁物への適用とルブレン薄膜酸化過程のその場観察への応用(第27回表面科学講演大会論文特集(3))

国立国会図書館請求記号
Z15-379
国立国会図書館書誌ID
9644988
資料種別
記事
著者
町田 真一ほか
出版者
東京 : 日本表面科学会
出版年
2008-09
資料形態
掲載誌名
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編 29(9) 2008.9
掲載ページ
p.543~549
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
町田 真一
中山 泰生
石井 久夫
並列タイトル等
Charge-up durability and in-situ tracking of a photooxidation process of rubrene studied by photoelectron yield spectroscopy: toward photoelectronic investigation on organic electronics devices
タイトル(掲載誌)
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編
巻号年月日等(掲載誌)
29(9) 2008.9
掲載巻
29
掲載号
9