周期溝加工基板上への減圧HVPE法によるAlN成長と評価

• 資料種別: 記事
• タイトル: 周期溝加工基板上への減圧HVPE法によるAlN成長と評価
• 著者・編者: 片桐 佑介; 奥浦 一輝; 呉 潔君 他
• シリーズタイトル: レーザ・量子エレクトロニクス
• 著者標目: 片桐 佑介; 奥浦 一輝; 呉 潔君
• 並列タイトル等: Low-pressure HVPE growth and characterization of AlN on period-trench-patterned substrate
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 108(323) 2008.11.27・28
• 掲載巻: 108
• 掲載号: 323
• 掲載ページ: 65～70
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2008-11
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: AlN; LP-HVPE
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: LQE2008-110
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 9738726; http://id.ndl.go.jp/bib/9738726
• 整理区分コード: 632