雑誌電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報
巻号108(329)-108(335) 20081200-20081200
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アンジュレータ光源を使用した軟X線励起によるa-Si膜中のSi原子移動 (シリコン材料・デバイス)

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アンジュレータ光源を使用した軟X線励起によるa-Si膜中のSi原子移動

(シリコン材料・デバイス)

国立国会図書館請求記号
Z16-940
国立国会図書館書誌ID
9762559
資料種別
記事
著者
高梨 泰幸ほか
出版者
東京 : 電子情報通信学会
出版年
2008-12-05
資料形態
紙
掲載誌名
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 108(335) 2008.12.5
掲載ページ
p.17～20
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紙

資料種別
記事
タイトル
アンジュレータ光源を使用した軟X線励起によるa-Si膜中のSi原子移動
著者・編者
高梨 泰幸
部家 彰
松尾 直人 他
シリーズタイトル
シリコン材料・デバイス
著者標目
高梨 泰幸
部家 彰
松尾 直人
並列タイトル等
Si atom movement in a-Si film by soft X-ray excitation using undulators source
タイトル（掲載誌）
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等（掲載誌）
108(335) 2008.12.5
掲載巻
108
掲載号
335