Self-Organizing Growth of Nanometer Mesa Structures on Silicon (100) Substrates.

• 資料種別: 記事
• タイトル: Self-Organizing Growth of Nanometer Mesa Structures on Silicon (100) Substrates.
• 巻次・部編番号: 33; 4B
• 著者・編者: Gossner Harald; Baumgärtner Hermann; Hammerl Erwin; Wittmann Franz; Eisele Ignaz; Heinzel Thomas; Lorenz Heribert
• 著者標目: Gossner Harald; Baumgärtner Hermann; Hammerl Erwin; Wittmann Franz; Eisele Ignaz; Heinzel Thomas; Lorenz Heribert
• 出版年月日等: 1994
• 出版年（W3CDTF）: 1994
• タイトル（掲載誌）: Japanese Journal of Applied Physics
• 巻号年月日等（掲載誌）: 33 4B
• 掲載巻: 33
• 掲載号: 4B
• 掲載ページ: 2268-2271
• ISSN（掲載誌）: 0021-4922; 1347-4065
• 件名標目: local epitaxy; micro-shadow masks; mesa growth; nanotechnology; self-organizing growth; silicon; molecular beam epitaxy
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.1143/JJAP.33.2268
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 連携機関・データベース: 科学技術振興機構 : J-STAGE; http://www.jstage.jst.go.jp

• 要約等: Lateral patterning is a crucial technological step for the fabrication of complex nanostructures. It can be achieved either by etching or by a local d...