液相堆積シリコン酸化膜／シリコン界面特性の改善

• 資料種別: 記事
• タイトル: 液相堆積シリコン酸化膜／シリコン界面特性の改善
• 巻次・部編番号: 123; 10
• 著者・編者: 羽路 伸夫; ポーンケオ チャンタマリー; 毛利 重信
• 著者標目: Haneji Nobuo; 羽路 伸夫; Chanthamaly Phonekeo; ポーンケオ チャンタマリー; Mouri Shigenobu; 毛利 重信
• 出版年月日等: 2003
• 出版年（W3CDTF）: 2003
• 並列タイトル等: The Improvement of the Characteristics of Liquid Phase-Deposited Silicon Dioxide/Silicon Interface
• タイトル（掲載誌）: 電気学会論文誌Ｃ（電子・情報・システム部門誌）; 電気学会論文誌． Ｃ; IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems; 電気学会論文誌. C
• 巻号年月日等（掲載誌）: 123 10
• 掲載巻: 123
• 掲載号: 10
• 掲載ページ: 1695-1699
• ISSN（掲載誌）: 0385-4221; 1348-8155
• 著者別名: Haneji Nobuo; Chanthamaly Phonekeo; Mouri Shigenobu
• 件名標目: low temperature process; 低温プロセス; silicon dioxide films; シリコン酸化膜; LPD; liquid phase deposition; 液相堆積法
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.1541/ieejeiss.123.1695
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 連携機関・データベース: 科学技術振興機構 : J-STAGE

• 要約等: Liquid phase deposition (LPD) is the method to deposit SiO<SUB>2</SUB> films on the substrates at room temperature in the super-saturated fluorosilici...