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文書・図像類

エキシマ・レーザー・アニール法による高品質多結晶シリコン薄膜作製への新たなるアプローチ

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エキシマ・レーザー・アニール法による高品質多結晶シリコン薄膜作製への新たなるアプローチ

資料種別
文書・図像類
著者
河本, 直哉
出版者
山口大学ベンチャービジネスラボラトリー
出版年
2003
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料種別
文書・図像類
タイトルよみ
エキシマ レーザー アニールホウ ニヨル コウヒンシツ タケッショウ シリコン ハクマク サクセイ エノ アラタナル アプローチ
著者・編者
河本, 直哉
著者標目
出版年月日等
2003
出版年(W3CDTF)
2003
タイトル(掲載誌)
山口大学ベンチャービジネスラボラトリー年報
巻号年月日等(掲載誌)
7