第25節光学法、X線法によるアモルファスIGZO薄膜の構造・物性解析; 光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御

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資料種別: 図書
タイトル: 第25節光学法、X線法によるアモルファスIGZO薄膜の構造・物性解析; 光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御
著者・編者: 神谷, 利夫
KAMIYA, TOSHIO
細野, 秀雄
HOSONO, HIDEO
著者標目: 神谷, 利夫
KAMIYA, TOSHIO
細野, 秀雄
HOSONO, HIDEO
出版事項: 2013/6/28 株式会社技術情報協会発行
出版年月日等: 2013
出版年（W3CDTF）: 2013
掲載ページ: 367-376
本文の言語コード: jpn
対象利用者: 一般
一般注記: identifier:oai:t2r2.star.titech.ac.jp:50210665
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
提供元機関・データベース: 東京工業大学 : 東京工業大学リサーチリポジトリ