MOSFET高性能化に向けたSOI技術に関する研究

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資料種別: 文書・図像類
タイトル: MOSFET高性能化に向けたSOI技術に関する研究
著者・編者: 石山, 俊彦
著者標目: 石山, 俊彦
出版事項: 静岡大学大学院電子科学研究科
出版年月日等: 2005-03-11
出版年（W3CDTF）: 2005-03-11
並列タイトル等: Study on SOI technologies for high performance MOSFETs
タイトル（掲載誌）: 静岡大学大学院電子科学研究科研究報告
巻号年月日等（掲載誌）: 26
掲載巻: 26
掲載ページ: 121-123
ISSN（掲載誌）: ISSN : 03885070
本文の言語コード: jpn
NDC: 544
対象利用者: 一般
一般注記: 博士学位論文の要旨学位記番号:工博乙第100号
乙第114号
application/pdf
オンライン閲覧公開範囲: 限定公開
関連情報: 000004303804
掲載誌（NCID）: AN00103168
https://ci.nii.ac.jp/ncid/AN00103168
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
提供元機関・データベース: 静岡大学 : 静岡大学学術リポジトリ