ECRプラズマ励起化学気相堆積法によるシリコン系化合物薄膜の低温堆積

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資料種別: 文書・図像類
タイトル: ECRプラズマ励起化学気相堆積法によるシリコン系化合物薄膜の低温堆積
著者・編者: 佐野, 慶一郎
著者標目: 佐野, 慶一郎
出版事項: 静岡大学大学院電子科学研究科
出版年月日等: 1998-03-30
出版年（W3CDTF）: 1998-03-30
並列タイトル等: Low temperature depositions of silicon compound films by ECR plasma enhanced chemical vapor deposition method
タイトル（掲載誌）: 静岡大学大学院電子科学研究科研究報告
巻号年月日等（掲載誌）: 19
掲載巻: 19
掲載ページ: 224-226
ISSN（掲載誌）: PISSN : 03885070
本文の言語コード: jpn
NDC: 549
対象利用者: 一般
一般注記: 博士学位論文の要旨学位記番号:工博甲第148号
甲第151号
application/pdf
記録形式（IMT）: application/pdf
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
関連情報: 000000310100
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
提供元機関・データベース: 静岡大学 : 静岡大学学術リポジトリ