微結晶シリコン系薄膜の局在準位の評価とその低減に関する研究 - ヘテロ構造薄膜への共振型光熱ベンディング分光法の応用 -

• 資料種別: 文書・図像類
• タイトル: 微結晶シリコン系薄膜の局在準位の評価とその低減に関する研究 - ヘテロ構造薄膜への共振型光熱ベンディング分光法の応用 -
• 著者・編者: 野々村, 修一
• 著者標目: 野々村, 修一
• 出版年月日等: 2004
• 出版年（W3CDTF）: 2004
• 本文の言語コード: jpn
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 研究報告書; 平成14年度-平成16年度年度科学研究費補助金 (基盤研究(B)(2) 課題番号14350163) 研究成果報告書
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• 一次資料へのリンクURL: はしがき （abstract）; https://gifu-u.repo.nii.ac.jp/record/73222/files/14350163.pdf
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 岐阜大学 : 岐阜大学機関リポジトリ

目次

9-16p: 吉田憲充[ほか]. 光誘起体積変化ードーピング効果ー. 固体物理. 2002 37(12): 933-940

29-31p: Ogawa S. et al., Optical properties of TiO2 thin films estimated by photothermal deflection spectroscopy. Review of Scientific Instruments. 2003 74(1): 863-865

32-34p: Kunii T. et al., Resonant photothermal bending spectroscopy at variable temperature 25-150 degrees C and its application to hydrogenated microcrystalline siliconfilms. Review of Scientific Instruments. 2003 74(1): 881-883

36-39p: Chikusa K. et al., Preparation of B-doped a-Si1-xCx:H films and heterojunction p-i-n solar cells by the Cat-CVD method. Thin Solid Films. 2003 430: 245-248

41-44p: Natsuhara H. et al., Hydrogen-radical durability of TiO2 thin films for protecting transparent conducting oxide for Si thin film solar cells. Thin Solid Films. 2003 430: 253-256