文書・図像類

プロトンビーム描画により形成したシリコン空孔の光学特性劣化要因に関する研究

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プロトンビーム描画により形成したシリコン空孔の光学特性劣化要因に関する研究

資料種別
文書・図像類
著者
山崎, 雄一ほか
出版者
-
出版年
2018-11-07
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

先進パワー半導体分科会 第5回講演会

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書誌情報

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資料種別
文書・図像類
著者・編者
山崎, 雄一
千葉, 陽史
牧野, 高紘
佐藤, 真一郎
山田, 尚人
佐藤, 隆博
加田, 渉
土方, 泰斗
児島, 一聡
-Y., Lee S.
大島, 武
山崎 雄一
千葉 陽史
牧野 高紘
佐藤 真一郎
山田 尚人
佐藤 隆博
加田 渉
大島 武
出版年月日等
2018-11-07
出版年(W3CDTF)
2018-11-07
本文の言語コード
jpn
対象利用者
一般
一般注記
先進パワー半導体分科会 第5回講演会
連携機関・データベース
国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース(IRDB)(機関リポジトリ)