文書・図像類

C60クラスターイオンビームを照射したSiとGeの表面構造

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C60クラスターイオンビームを照射したSiとGeの表面構造

資料種別
文書・図像類
著者
村尾, 吉輝 (高知工科大学)ほか
出版者
-
出版年
2018-12-11
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

QST高崎サイエンスフェスタ2018

資料詳細

要約等:

半導体であるGe, GaSb, InSbにイオンビーム照射(例えばGaイオン)を行うと、点欠陥の移動で表面に多孔質構造が形成されるが、Siの場合は形成されない。本研究では、高密度点欠陥生成が可能なC60イオンビームをSi(001)面に対して室温で角度を変えて照射することで、多孔質構造の形成を試みた。...

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書誌情報

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資料種別
文書・図像類
著者・編者
村尾, 吉輝 (高知工科大学)
新田, 紀子 (高知工科大学)
土田, 秀次 (京都大学)
冨田, 成夫 (筑波大学)
笹, 公和 (筑波大学)
平田, 浩一 (産総研)
柴田, 裕実 (大阪大学)
星野, 靖 (神奈川大学)
平野, 貴美
山田, 圭介
千葉, 敦也
齋藤, 勇一
鳴海, 一雅
平野 貴美
山田 圭介
千葉 敦也
齋藤 勇一
鳴海 一雅
出版年月日等
2018-12-11
出版年(W3CDTF)
2018-12-11
本文の言語コード
jpn
対象利用者
一般
一般注記
QST高崎サイエンスフェスタ2018
連携機関・データベース
国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース(IRDB)(機関リポジトリ)